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阻垢劑的主要成分和化學名稱如下

作者:handler 日期:2023-05-10 12-40-23

水垢是在換熱面上或設備內(nèi)壁由鈣鎂鐵鋁離子和硫酸鹽、碳酸鹽、硅酸鹽沉積成垢,水垢造成的破壞有如下幾個方面:



1、由于水垢傳熱系數(shù)很小,造成設備傳熱效率降低,嚴重的水垢甚至會損耗80%的蒸汽能耗,也就是增加80%的碳排放,可見水垢與碳排放的關系。



2、水垢的日積月累,厚度增加,妨礙了設備內(nèi)部的流體流動,降低了生產(chǎn)效率。



3、設備壽命使用周期縮短。



4、清洗污垢,帶來成本增加和停產(chǎn)損失。



阻垢劑是一種預防水垢產(chǎn)生和積累的化學藥劑,阻垢劑分子有很多化學鍵可以結垢離子形成螯合,阻垢劑包圍了結垢離子,阻礙結垢離子和硫酸鹽結合,分散已經(jīng)產(chǎn)生的水垢,形成細碎的不規(guī)則結晶,這樣水垢及時發(fā)生,也不會附著在金屬表面,這就是阻垢劑阻垢的原理。



阻垢劑的主要成分和化學名稱如下:



有機磷固體系列阻垢緩蝕劑



HPAA 2-羥基膦酰基乙酸阻垢劑



羥基乙叉二膦酸四鈉阻垢劑



ATMP 氨基三甲叉膦酸阻垢劑



ATMPNa5 氨基三甲叉膦酸五鈉阻垢劑



EDTMPS 乙二胺四甲叉膦酸鈉阻垢劑



HEDPNa4 羥基乙叉二膦酸四鈉阻垢劑



BHMTPMPA 1,6-亞己基三胺五甲叉膦酸阻垢劑



HEDP 羥基乙叉二膦酸阻垢劑



PAPE 多元醇磷酸酯阻垢劑



DTPMPA 二乙烯三胺五甲叉膦酸阻垢劑



PBTCA 2-膦酸丁烷-1,2,4-三羧酸阻垢劑



PAPEMP 多氨基多醚基甲叉膦酸阻垢劑



ATMPNa3 氨基三甲叉膦酸三鈉阻垢劑



HEDP 羥基乙叉二膦酸阻垢劑



ATMP 氨基三甲叉膦酸阻垢劑HEDPNa4



以上只是部分水處理阻垢劑的主要成分和化學名稱。



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